نمایش منو
صفحه اصلی
جستجوی پیشرفته
فهرست کتابخانه ها
انتخاب زبان
فارسی
English
العربی
عنوان
Dustry plasmas : physics, chemistry and technological impacts in plasma processing
پدید آورنده
edited by Andre Bouchoule
موضوع
Plasma engineering , Plasma )Ionized gases( , Dusty Plasmas , Plasma chemistry , Plasma-enhanced chemical vapor deposition
رده
TA
2020
.
D88
1999
کتابخانه
کتابخانه مرکزی دانشگاه صنعتی امیرکبیر
محل استقرار
استان:
تهران
ـ شهر:
تهران
تماس با کتابخانه :
۶۶۴۰۷۴۱۸(۰۲۱) – ۶۴۵۴۲۳۴۹(۰۲۱)
اطلاعات محلی رکورد
نوع مدرک
CE
عنوان و نام پديدآور
عنوان اصلي
Dustry plasmas : physics, chemistry and technological impacts in plasma processing
وضعیت نشر و پخش و غیره
محل نشرو پخش و غیره
Chichester
نام ناشر، پخش کننده و غيره
Wiley
تاریخ نشرو بخش و غیره
1999
مشخصات ظاهری
نام خاص و کميت اثر
viii, 408 p.: ill
يادداشت کلی
متن يادداشت
Includes bibliographies and indexes
موضوع (اسم عام یاعبارت اسمی عام)
عنصر شناسه ای
Plasma engineering
عنصر شناسه ای
Plasma )Ionized gases(
عنصر شناسه ای
Dusty Plasmas
عنصر شناسه ای
Plasma chemistry
عنصر شناسه ای
Plasma-enhanced chemical vapor deposition
رده بندی کنگره
شماره رده
TA
نشانه اثر
2020
شماره رکورد رده بندي
.
D88
شماره رکورد غير از شماره رده بندي
1999
نام شخص به منزله سر شناسه - (مسئولیت معنوی درجه اول )
کد نقش
TI
عنصر شناسه اي
edited by Andre Bouchoule
پیشنهاد / گزارش اشکال
×
پیشنهاد / گزارش اشکال
×
اخطار!
اطلاعات را با دقت وارد کنید
گزارش خطا
پیشنهاد