عرض القائمة
الرئیسیة
البحث المتقدم
قائمة المکتبات
إختر اللغة
فارسی
English
العربی
عنوان
Principles of plasma discharges and materials processing
پدید آورنده
/ Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
موضوع
Plasma dynamics,Thin films, Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry
رده
QC718
.
5
.
D9L54
1994
کتابخانه
المكتبة المركزية مركز التوثيق وتزويد المصادر العلمية
محل استقرار
استان:
أذربایجان الشرقیة
ـ شهر:
تماس با کتابخانه :
04133443834
0471005770
IR
E-160
انگلیسی
IR
Principles of plasma discharges and materials processing
[Book]
/ Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
New York
: Wiley
, 1994.
xxvi, 572 p. , ill. , 24 cm.
"A Wiley-Interscience publication."
Electronic
Includes bibliographical references (p. 559-564) and index.
Plasma dynamics
Thin films, Surfaces
Plasma etching
Plasma chemistry
QC718
.
5
.
D9L54
1994
Lieberman, M. A.( Michael A.)
Lichtenberg, Allan J
ایران
E-160
عادی
عادی
E-160.DJVU
6514183
مختارزاده
04710057701-M.jpg
متن
0
E-160
انگلیسی
old catalog
e
BL
1
a
Y
الاقتراح / اعلان الخلل
×
الاقتراح / اعلان الخلل
×
تحذیر!
دقق في تسجیل المعلومات
اعلان الخلل
اقتراح