عرض القائمة
الرئیسیة
البحث المتقدم
قائمة المکتبات
إختر اللغة
فارسی
English
العربی
عنوان
Principles of plasma discharges and materials processing
پدید آورنده
/ Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
موضوع
Plasma dynamics,Thin films- Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry- Industrial applications
رده
QC718
.
5
.
D9
,
L54
2005
کتابخانه
كتابخانه مركزي و مركز اسناد دانشگاه مازندران
محل استقرار
استان:
مازندران
ـ شهر:
بابلسر
تماس با کتابخانه :
62
-
35302861
-
011
0471720011
25051
eng
Principles of plasma discharges and materials processing
/ Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
2nd ed.
Hoboken, N.J
: .Wiley-Interscience
,c2005.
xxxv, 757 p
. ill. 25 cm.
Language: انگلیسی
Print
Includes bibliographical references (p. 735-748) and index.
Plasma dynamics
Thin films- Surfaces
Plasma etching
Plasma chemistry- Industrial applications
530
.
4
.
4
Lieberman, M. A.(Michael A.)
Lichtenberg, Allan J
old catalog
الاقتراح / اعلان الخلل
×
الاقتراح / اعلان الخلل
×
تحذیر!
دقق في تسجیل المعلومات
اعلان الخلل
اقتراح