عرض القائمة
الرئیسیة
البحث المتقدم
قائمة المکتبات
إختر اللغة
فارسی
English
العربی
عنوان
Principles of plasma discharges and materials processing]CD[
پدید آورنده
Lieberman, M. A. ) Michael A.(,Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
موضوع
، Plasma dynamics,Surfaces ، Thin films,، Plasma etching,، Plasma chemistry
رده
QC718
.
5
.
D9
L54
]
CD
[
کتابخانه
كتابخانه و مركز اسناد دانشگاه كردستان
محل استقرار
استان:
کردستان
ـ شهر:
سنندج
تماس با کتابخانه :
33624006
-
087
۱۷۶۸
Lieberman, M. A. ) Michael A.(
Principles of plasma discharges and materials processing]CD[
New York
Wiley
c1994
xxvi, 572 p. : ill. ; 25 cm.
"A Wiley-Interscience publication."
Includes bibliographical references )p. 559-564( and index
، Plasma dynamics
Surfaces ، Thin films
، Plasma etching
، Plasma chemistry
530
.
4/4
QC718
.
5
.
D9
L54
]
CD
[
AU
Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
AU J nallA ,grebnethciL
TI
ش دیداری شنیداریبخ
الاقتراح / اعلان الخلل
×
الاقتراح / اعلان الخلل
×
تحذیر!
دقق في تسجیل المعلومات
اعلان الخلل
اقتراح