1. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : Lieberman, M. A. )Michael A.(
کتابخانه: كتابخانه مركزی دانشگاه صنعتي شريف (تهران)
موضوع : ، Plasma dynamics,، Thin films-- Surfaces,، Plasma etching,، Plasma chemistry-- Industrial applications
رده :
QC
718
.
5
.
D9
.
L54
2005
2. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : Lieberman, M. A.)Michael A.(
کتابخانه: کتابخانه مرکز پژوهش متالورژی رازی (تهران)
موضوع : ، Plasma dynamics,، Thin films- Surfaces,، Plasma etching,، Plasma chemistry- Industrial applications
رده :
QC
718
.
5
.
D9
L54
2005
