عنوان

بررسی برخی خواص نوری، الکتریکی و ساختاری لایه های نازک دی اکسید قلع آلاییده با آلومینیوم تهیه شده به روش بمباران الکترونی

شماره

‭۹۰۵۶پ‬

زبان متن نوشتاري يا گفتاري و مانند آن

per

عنوان اصلي

بررسی برخی خواص نوری، الکتریکی و ساختاری لایه های نازک دی اکسید قلع آلاییده با آلومینیوم تهیه شده به روش بمباران الکترونی

نام نخستين پديدآور

/خدیجه ابراهیمی اردی

نام ناشر، پخش کننده و غيره

تبریز ، دانشگاه تبریز دانشکده ی فنی مهندسی مکانیک گروه مهندسی مواد

متن يادداشت

چاپی

جزئيات پايان نامه و نوع درجه آن

کارشناسی ارشد

نظم درجات

فیزیک

زمان اعطا مدرک

‮‭۱۳۹۱/۰۶/۱۵‬

کسي که مدرک را اعطا کرده

تبریز ، دانشگاه تبریز دانشکده ی فنی مهندسی مکانیک گروه مهندسی مواد

متن يادداشت

دی‌صاکسید قلع آلاییده با آلومینیوم عضوی از گروه مواد اکسیدی رسانای شفاف است .لایه‌صهای نازک دی اکسید قلع در صورت آلایش با آلومینیوم جزو نیمرساناهای تبهگن بوده و انتظار می رود خواص فیزیکی جالبی از خود نشان دهند .از آنجا که این لایه‌صها دارای ویژگی های منحصر بفردی از قبیل شفافیت در ناحیه مرئی، رسانندگی خوب و چسبندگی عالی به زیرلایه ها هستند به عنوان اتصالات شفاف در ابزارهای اپتوالکترونیکی و میکروالکترونیکی، اتصالات شاتکی، پیوند همگن ترانزیستورهای دوقطبی و در بسیاری از موارد دیگر به کار می‌صروند .به منظور بدست آوردن خواص بهینه، یعنی شفافیت بالا و مقاومت ویژه پایین، دمای تکلیس و شرایط نهشت شامل دمای زیرلایه، دمای بازپخت و ضخامت لایه‌صها بایستی بهینه شوند.از آنجا که ممکن است کندوپاش آسیب چشمگیری را به سطح زیرلایه برساند و نقص‌صهایی را بوجود آورد، که ممکن است کارایی ابزارهای اپتوالکترونیکی را تحت تاثیر قرار دهد، اغلب روش تبخیر با باریکه الکترونی برای تهیه لایه‌صهای دی-اکسید قلع آلاییده با آلومینیوم ترجیح داده می شود.در این کار تجربی لایه‌صهای نازک دی اکسید قلع آلاییده با آلومینیوم با ترکیب‌صهای مختلفی از ‮‭۵‬ تا ‮‭۱۰‬ درصد جرمی آلومینیوم و ‮‭۹۵‬ تا ‮‭۹۰‬ درصد جرمی دی‌صاکسید قلع بوسیله تبخیر با باریکه الکترونی بر روی زیرلایه‌صهای شیشه‌صای نهشته شدند .سپس تاثیر شرایط نهشت از قبیل دمای زیرلایه، دمای بازپخت و ضخامت بر خواص الکتریکی، اپتیکی و ساختاری این لایه‌صها بررسی شد .خواص این لایه‌صهای نازک بوسیله پراش پرتو‮‭X‬ ، اسپکتروفوتومتر‮‭VIS - UV‬ و پروب چهارسوزنی بررسی شد .بررسی طیف ‮‭XRD‬ اخذ شده از این لایه‌صها نشان داد که پس از بازپخت، فاز این لایه‌صها از آمورف به بس‌صبلور تغییر پیدا می‌صکند .میزان شفافیت لایه‌صها با افزایش دمای بازپخت، بیشترمی‌صشود .با افزایش دمای تکلیس و دمای زیرلایه، عبور میانگین در ناحیه مرئی افزایش و مقاومت ویژه کاهش می-یابد .همچنین با افزایش ضخامت لایه‌صها، میزان شفافیت لایه‌صها و مقاومت ویژه کاهش می‌صیابند، به طوریکه در مورد لایه‌صهای با ‮‭۵/۷‬ جرمی آلومینیوم، مقدار میانگین عبور لایه‌صها از مقدار ‮‭۵/۸۸‬ برای نمونه‌صای با ضخامت ‮‭۲۵۰‬ نانومتر به مقدار ‮‭۳/۸۲‬ برای نمونه‌صای با ضخامت ‮‭۴۵۰‬ نانومتر کاهش می‌صیابد .همچنین مقاومت ویژه به کمترین مقدار خود یعنی‮‭۱۰- ۴‬‌ ‮‭۲۴۷/۵‬اهم-سانتیمتر برای نمونه‌صای با ضخامت ‮‭۴۵۰‬ نانومتر می‌صرسد.

موضوع مستند نشده

thin films

موضوع مستند نشده

Al doped tin oxide

موضوع مستند نشده

evaporation by electron beam

موضوع مستند نشده

X-ray diffraction

موضوع مستند نشده

optical transmission

موضوع مستند نشده

resistivity

مستند نام اشخاص تاييد نشده

ابراهیم اردی، خدیجه، پدید آورنده

مستند نام اشخاص تاييد نشده

بیدادی، حسن، استاد راهنما

مستند نام اشخاص تاييد نشده

پرهیزکار، مجتبی، استاد راهنما

مستند نام اشخاص تاييد نشده

هادیان،فرامرز، استاد مشاور

يادداشت عمومي

سیاه و سفید

وضعیت فهرست نویسی

نمایه‌سازی قبلی