نمایش منو
صفحه اصلی
جستجوی پیشرفته
فهرست کتابخانه ها
انتخاب زبان
فارسی
English
العربی
عنوان
Fundamental aspects of silicon oxidation
پدید آورنده
/ Yves J. Chabal (ed.)
موضوع
Silicon oxide
رده
QD181
.
S6
,
F85
2001
کتابخانه
کتابخانه مرکزی و مرکز اسناد و انتشارات دانشگاه تبریز
محل استقرار
استان:
آذربایجان شرقی
ـ شهر:
تبریز
تماس با کتابخانه :
04133294120
-
04133294118
شابک
شابک اشتباه
354041682X (alk. paper)
شماره کتابشناسی ملی
کد کشور
IR
شماره
97-1716
زبان اثر
زبان متن نوشتاري يا گفتاري و مانند آن
انگلیسی
کشور محل نشر یا تولید
کشور محل نشر
IR
عنوان و نام پديدآور
عنوان اصلي
Fundamental aspects of silicon oxidation
نام عام مواد
[Book]
نام نخستين پديدآور
/ Yves J. Chabal (ed.)
وضعیت نشر و پخش و غیره
محل نشرو پخش و غیره
Berlin ;New York
نام ناشر، پخش کننده و غيره
: Springer,
تاریخ نشرو بخش و غیره
, c2001.
مشخصات ظاهری
نام خاص و کميت اثر
xiii, 260 p.
ساير جزييات
: ill. (some col.)
ابعاد
; 24 cm.
فروست
عنوان فروست
(Springer series in materials science
مشخصه جلد
; 46)
يادداشت کلی
متن يادداشت
Language: انگلیسی
یادداشتهای مربوط به نشر، بخش و غیره
متن يادداشت
Print
یادداشتهای مربوط به کتابنامه ، واژه نامه و نمایه های داخل اثر
متن يادداشت
Includes bibliographical references and index.
فروست (داده ارتباطی)
عنوان
Springer series in materials science
شماره جلد
v. 46
موضوع (اسم عام یاعبارت اسمی عام)
موضوع مستند نشده
Silicon oxide
رده بندی ديویی
شماره
546
.
6832
رده بندی کنگره
شماره رده
QD181
نشانه اثر
.
S6
,
F85
2001
نام شخص - ( مسئولیت معنوی درجه دوم )
مستند نام اشخاص تاييد نشده
Chabal, Yves Jean، 1952
مبدا اصلی
کشور
ایران
وضعیت فهرست نویسی
وضعیت فهرست نویسی
old catalog
وضعیت انتشار
فرمت انتشار
p
اطلاعات رکورد کتابشناسی
نوع ماده
BL
پیشوند ISBD اعمال شده است
1
اطلاعات دسترسی رکورد
سطح دسترسي
a
تكميل شده
Y
پیشنهاد / گزارش اشکال
×
پیشنهاد / گزارش اشکال
×
اخطار!
اطلاعات را با دقت وارد کنید
گزارش خطا
پیشنهاد