نمایش منو
صفحه اصلی
جستجوی پیشرفته
فهرست کتابخانه ها
انتخاب زبان
فارسی
English
العربی
عنوان
Principles of plasma discharges and materials processing
پدید آورنده
Lieberman, M. A. )Michael A.(
موضوع
، Plasma dynamics,Surfaces ، Thin films,، Plasma etching,Industrial applications ، Plasma chemistry
رده
QC
718
.
5
.
D9
L54
2005
کتابخانه
كتابخانه مركزی و مركز اسناد دانشگاه صنعتی خواجه نصير الدين طوسى
محل استقرار
استان:
تهران
ـ شهر:
تهران
تماس با کتابخانه :
88881052
-
88881042
-
021
عنوان و نام پديدآور
عنوان اصلي
Principles of plasma discharges and materials processing
وضعیت نشر و پخش و غیره
محل نشرو پخش و غیره
Hoboken, N.J.
نام ناشر، پخش کننده و غيره
Wiley-Interscience
تاریخ نشرو بخش و غیره
c2005
مشخصات ظاهری
نام خاص و کميت اثر
xxxv, 757 p. : ill. ; 25 cm.
يادداشت کلی
متن يادداشت
Includes bibliographical references )p. 735-748( and index
یادداشتهای مربوط به عنوان و پدیدآور
متن يادداشت
Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
یادداشت های مربوط به نسخه اصلی
متن يادداشت
2
موضوع (اسم عام یاعبارت اسمی عام)
عنصر شناسه ای
، Plasma dynamics
عنصر شناسه ای
Surfaces ، Thin films
عنصر شناسه ای
، Plasma etching
عنصر شناسه ای
Industrial applications ، Plasma chemistry
رده بندی کنگره
شماره رده
QC
718
.
5
.
D9
L54
2005
نام شخص به منزله سر شناسه - (مسئولیت معنوی درجه اول )
عنصر شناسه اي
Lieberman, M. A. )Michael A.(
کد نقش
AU
نام / عنوان به منزله شناسه افزوده
عنصر شناسه اي
AU Lichtenberg, Allan J
عنصر شناسه اي
TI
پیشنهاد / گزارش اشکال
×
پیشنهاد / گزارش اشکال
×
اخطار!
اطلاعات را با دقت وارد کنید
گزارش خطا
پیشنهاد