عنوان
پدید آورنده
موضوع
رده
TA2020 .H37 1990eb
TA2020
.
H37
1990eb
کتابخانه
محل استقرار
شابک
شابک
0815512201
شابک
1591242975 (electronic bk.)
شابک
9780815512202
شابک
9781591242970 (electronic bk.)
شماره کتابشناسی ملی
شماره
b501881
عنوان و نام پديدآور
عنوان اصلي
Handbook of plasma processing technology
نام عام مواد
[Book]
ساير اطلاعات عنواني
fundamentals, etching, deposition, and surface interactions /
نام نخستين پديدآور
edited by Stephen M. Rossnagel, Jerome J. Cuomo, William D. Westwood.
وضعیت نشر و پخش و غیره
محل نشرو پخش و غیره
Park Ridge, N.J. :
نام ناشر، پخش کننده و غيره
Noyes Publications,
تاریخ نشرو بخش و غیره
c1990.
مشخصات ظاهری
نام خاص و کميت اثر
1 online resource (xxiii, 523 p.) :
ساير جزييات
ill.
فروست
عنوان فروست
Materials science and process technology series.
یادداشتهای مربوط به کتابنامه ، واژه نامه و نمایه های داخل اثر
متن يادداشت
Includes bibliographical references and index.
یادداشتهای مربوط به خلاصه یا چکیده
متن يادداشت
An overview of the technology that describes the advantages provided by plasmas, plasma fundamentals, and a range of plasma processes relevant to the deposition and etching of thin films for microelectronics and other fields.
ویراست دیگر از اثر در قالب دیگر رسانه
عنوان
Handbook of plasma processing technology.
شماره استاندارد بين المللي کتاب و موسيقي
0815512201
موضوع (اسم عام یاعبارت اسمی عام)
موضوع مستند نشده
Plasma engineering.
موضوع مستند نشده
Plasma etching.
موضوع مستند نشده
Semiconductors-- Etching.
رده بندی ديویی
شماره
621
.
044
ويراست
22
رده بندی کنگره
شماره رده
TA2020
نشانه اثر
.
H37
1990eb
نام شخص - (مسئولیت معنوی برابر )
مستند نام اشخاص تاييد نشده
Cuomo, J. J.
مستند نام اشخاص تاييد نشده
Rossnagel, Stephen M.
مستند نام اشخاص تاييد نشده
Westwood, William D., (William Dickson),1937-
نام تنالگان _ (مسئولیت معنوی برابر)
مستند نام تنالگان تاييد نشده
Knovel (Firm)
مبدا اصلی
تاريخ عمليات
20131119105445.0
دسترسی و محل الکترونیکی
نام الکترونيکي
مطالعه متن کتاب اطلاعات رکورد کتابشناسی
نوع ماده
[Book]
اطلاعات دسترسی رکورد
تكميل شده
Y
