عنوان
پدید آورنده
موضوع
رده
QC176.A1 P53 v.27
QC176
.
A1
P53
v
.
27
کتابخانه
محل استقرار
شابک
شابک
0125330278
شابک
9780125330275
شماره کتابشناسی ملی
شماره
dltt
عنوان و نام پديدآور
عنوان اصلي
Ionized physical vapor deposition /
نام عام مواد
[Book]
نام نخستين پديدآور
edited by Jeffrey A. Hopwood.
وضعیت نشر و پخش و غیره
محل نشرو پخش و غیره
San Diego :
نام ناشر، پخش کننده و غيره
Academic Press,
تاریخ نشرو بخش و غیره
c2000.
مشخصات ظاهری
نام خاص و کميت اثر
xii, 253 p. :
ساير جزييات
ill. ;
ابعاد
24 cm.
فروست
عنوان فروست
Thin films ;
مشخصه جلد
v. 27
یادداشتهای مربوط به کتابنامه ، واژه نامه و نمایه های داخل اثر
متن يادداشت
Includes bibliographical references and indexes.
یادداشتهای مربوط به مندرجات
متن يادداشت
The role of ionized physical vapor deposition in integrated circuit fabrication / Jeffrey A. Hopwood -- High-density plasma sources / Amy E. Wendt -- Ionization by radio freguency inductively coupled plasma / Steve Rossnagel -- Ionization by microwave electron cyclotron resonance plasma / William M. Holber -- Ionized hollow cathode magnetron sputtering / Kwok F. Lai -- Applications and properties of ionized physical vapor deposition films / John Forster -- Plasma physics / Jeffrey A. Hopwood -- Numerical modeling / Ming Li, Michael A. Vyvoda, and David B. Graves.
بدون عنوان
0
موضوع (اسم عام یاعبارت اسمی عام)
موضوع مستند نشده
Physical vapor deposition.
موضوع مستند نشده
Thin film devices-- Design and construction.
موضوع مستند نشده
Thin films.
رده بندی کنگره
شماره رده
QC176
.
A1
نشانه اثر
P53
v
.
27
نام شخص - (مسئولیت معنوی برابر )
مستند نام اشخاص تاييد نشده
Hopwood, Jeffrey A.
مبدا اصلی
تاريخ عمليات
20140220045959.0
دسترسی و محل الکترونیکی
نام الکترونيکي
مطالعه متن کتاب اطلاعات رکورد کتابشناسی
نوع ماده
[Book]
اطلاعات دسترسی رکورد
تكميل شده
Y
