عنوان

تهیه پوشش‌های شفاف مقاوم به نور ‮‭UV‬ با استفاده از رزین اپوکسی

Number

‭۱۳۳۳۷پ‬

.Language of Text, Soundtrack etc

per

Title Proper

تهیه پوشش‌های شفاف مقاوم به نور ‮‭UV‬ با استفاده از رزین اپوکسی

First Statement of Responsibility

/سعید نیک افشار

Name of Publisher, Distributor, etc.

: شیمی

Text of Note

چاپی

Dissertation or thesis details and type of degree

کارشناسی ارشد

Discipline of degree

شیمی - کاربردی

Body granting the degree

تبریز

Text of Note

رزین‌های اپوکسی به علت خواص مکانیکی و شیمیایی عالی، یکی از رزین‌صهای پر مصرف در دنیا می‌صباشند .رزین‌صهای اپوکسی در صنایع پوشش، ریخته‌صگری، چسب، کامپوزیت، رنگ و ... استفاده می‌صشوند .جهت پخت رزین‌صهای اپوکسی، نیاز به یک هاردنر) سفت کننده(، می‌صباشد .پس از پخت رزین، هنگامی که پلاستیک‌صهای اپوکسی در معرض نور خورشید قرار می‌صگیرند، به علت وجود پرتوهای نور‮‭UV‬ ، تخریب در ساختار اپوکسی رخ می‌صدهد .به این فرآیند تخریب، فوتوتخریب گفته می‌صشود .در طی فرآیند فوتوتخریب، پیوندهای عرضی در شبکه اپوکسی از بین رفته و خواص فیزیکی و مکانیکی آن کاهش می‌صیابد .از جمله تغییرات رخ داده در ساختار اپوکسی می‌صتوان به تغییر رنگ نمونه) زرد شدگی(، ایجاد ترک در سطح نمونه اشاره کرد .برای جلوگیری از فرآیند فوتوتخریب در ساختارصهای اپوکسی از جاذب‌صهای نور ‮‭UV‬ استفاده می‌صشود .جاذب‌صهای نور ‮‭UV‬ به دوسته جاذب‌صهای آلی و معدنی تقسیم می‌صشوند .از جاذب‌صهای نور ‮‭UV‬ پایه آلی می‌صتوان به مشتقات بنزوتری‌صآزول‌صها و بنزوفون‌صها اشاره کرد .از جاذب‌صهای نور ‮‭UV‬ پایه معدنی می‌صتوان دی اکسید تیتانیم، اکسید روی، اکسیدصهای آهن و سولفید کادمیم را نام برد .هدف اصلی پروژه پیش رو، تهیه پوشش های شفاف اپوکسی مقاوم به نور ‮‭UV‬ می‌صباشد .تمام پلیمرهای سنتزی در برابر نور فرابنفش خورشید حساس بوده و تخریب می‌صشوند .در طی فرآیند فوتوتخریب، پیوندهای عرضی و پیوندهای موجود در زنجیره اصلی تخریب شده و در نتیجه خواص مکانیکی و ظاهری آن تغییر می-کند و پس از مدتی پوشش مورد نظر به کلی تخریب می‌صگردد .با استفاده از جاذب‌صهای ‮‭UV‬ آلی و معدنی‮‭(Tinuvin ۱۱۳۰‬ ، بنزیل الکل، دی اکسید تیتانیم و اکسید روی (پوشش‌صهای مقاوم در برابر پرتوهای فرابنفش تهیه شد .جهت تابش نور ‮‭UV‬ لامپ ‮‭UVB‬ ساخت شرکت ‮‭Hitachi‬ به کار گرفته شد .برای بررسی خواص شیمیایی و مکانیکی نمونه‌صهای در معرض تابش، از تست‌صهای‮‭IR- FT‬،‮‭Vis- UV‬ ،‮‭SEM‬ ، استحکام کششی و اندازه‌صگیری کاهش وزن استفاده شد .نمونه) ‮‭K(c)‬ اپیران‮‭۶‬ ، ‮‭۲۰۵‬ ‮‭F‬ و ‮‭Tinuvin ۱۱۳۰)‬ ‮‭۳‬ بعد از ‮‭۸۰۰‬ ساعت ‮‭UV‬ دهی، به طور قابل قبولی در برابر فرآیند فوتوتخریب مقاومت نمود .مدول الاستیک نمونه) ‮‭K(b)‬ اپیران‮‭۶‬ ، ‮‭۲۰۵‬ ‮‭F‬ و ‮‭Tinuvin ۱۱۳۰)‬ ‮‭۲‬ بعد از ‮‭۸۰۰‬ ساعت ‮‭UV‬ دهی ‮‭۱۶۱۵.۰۰۶۷۲‬ بوده در حالی که برای نمونه) ‮‭C‬ اپیران ‮‭۶‬ و ‮‭۲۰۵)‬ ‮‭F‬ به ‮‭۱۴۱۹.۵۷ ۷۴‬ کاهش یافته است .تمام نتایج تست‌صهای مذکور، نشان از پایداری نوری نمونه‌صهایی دارد که در آن‌صها از جاذب‌صهای نور ‮‭UV‬ استفاده شده است .نوآوری کار پیش رو استفاده از بنزیل الکل به عنوان جاذب نور ‮‭UV‬ و همچنین استفاده از جاذب‌صهای آلی و معدنی و مقایسه آن‌صها با یکدیگر می‌صباشد .با استفاده از بنزیل الکل در حضور هاردنر ایزوفورن دی آمین پوششی تهیه شد که پس از ‮‭۸۰۰‬ ساعت قرارگیری در معرض نور‮‭UV‬ ، بدون هیچ گونه تغییر رنگی از خود مقاومت نشان داد .در صنعت نیز به وفور هم از جاذب فرابنفش آلی و معدنی استفاده می‌شود

Text of Note

Because of excellent chemical and mechanical properties, epoxy resins one of the most absolutely applicational resins that widely used in the world. Epoxy resins are used in the coatings industry, foundry, adhesives, composites, paint, etc. To curing epoxy resins a hardener is required. UV light cause structural damage, when the epoxy placed in the sun light. This degradation process, is called Photodegradation.Crosslinks in epoxy network broken During the photodegradation. Some changes occurred in epoxy structure, such as changes of color (yellowing), and crack in the surface can be mentioned.UV absorber used to avoid of photodegradation in epoxy structures, UV absorber divided into two categories: organic UV absorber and inorganic UV absorber. The derivation of benzotriazols can be mention as organic UV absorber and Titanium dioxide, zinc oxide, Iron oxide and Cadmium oxide can be mention as inorganic UV absorber.The main goal of this research project, is to prepare a transparent epoxy coating that resistant to UV light. All synthesis polymers, are UV sensitive and will be destroyed. When photodegradation process happened, crosslink and bond in the main chain has been degraded and the mechanical property and appearance will be changed and after a while the cover is completely destroyed and unusable. This means that using organic and inorganic UV absorbers (Tinuvin 1130, Benzyl alcohol, Titanium dioxide and Zinc oxide) prepare epoxy coatings that resistant to UV light. UV light, radiated by UVB lamp made by Hitachi Co. To investigate the mechanical and chemical properties of samples that in front of UV light, FT-IR UV-Vis spectroscopy, SEM, tensile strength and measurement of reduction of weight. The K(c) (epiran 6, F 205 and 3 Tinuvin 1130) specimen has been resisted significantly to photodegredation after 800 hours of espouser on UV light. The elastic module of K(b) (epiran 6, F 205 and 2 Tinuvin 1130) specimen is 1615.006 72 why the C (epiran 6, F 205) specimen has been reduced to 1419.574. All tests are used of the results show the stabilization of samples that using UV absorber used in the epoxy structure.Innovation of this work, is the used of Benzyl alcohol as UV light absorber and also using of organic and inorganic UV absorber and compare them to each other. To use of Benzyl alcohol in the presence of Isophorone diamine, prepared coating that after 800 hours of exposure to UV light, showed no color change. Both organic and inorganic UV absorbers are widely used in the industry

نیک افشار، سعید

میر محسنی، عبدالرضا، استاد راهنما

سالاری، داریوش، استاد مشاور

Public note

سیاه و سفید

نمایه‌سازی قبلی