اثر متغیرهای لایهنشانی الکتروشیمیایی بر روی مورفولوژی مزوبلورهای بیسموت
General Material Designation
[پایاننامه]
Parallel Title Proper
The effect of electrodeposition parameters on the morphology of Bismuth mesocrystals
First Statement of Responsibility
/رقیه بهرامیفرد
.PUBLICATION, DISTRIBUTION, ETC
Name of Publisher, Distributor, etc.
: مهندسی مواد
Date of Publication, Distribution, etc.
، ۱۳۹۷
PHYSICAL DESCRIPTION
Specific Material Designation and Extent of Item
۱۰۷ص
GENERAL NOTES
Text of Note
زبان: فارسی
Text of Note
زبان چکیده: فارسی
NOTES PERTAINING TO PUBLICATION, DISTRIBUTION, ETC.
Text of Note
چاپی - الکترونیکی
NOTES PERTAINING TO PHYSICAL DESCRIPTION
Text of Note
مصور، جدول ، نمودار
DISSERTATION (THESIS) NOTE
Dissertation or thesis details and type of degree
کارشناسی ارشد
Discipline of degree
مهندسی شیمی - نانو مواد
Date of degree
۱۳۹۷/۰۷/۰۱
Body granting the degree
صنعتی سهند
SUMMARY OR ABSTRACT
Text of Note
لایهنشانی الکتروشیمیایی یک روش مؤثر برای ایجاد ساختارهایی با طیف وسیعی از اندازههای نانومتری تا ابعاد ماکروسکوپی و با مورفولوژیهای گوناگون است .کنترل ساختمان کریستالی و مورفولوژی مزوساختارهای سه بعدی از طریق دستکاری پارامترهای لایهنشانی الکتروشیمیایی این امکان را فراهم میکند که مزوساختارها خواص فیزیکی منحصر بفردی بیابند .در این پژوهش، لایهنشانی الکتروشیمیایی فلز بیسموت بر روی گرافیت پیرولیتی بسیار منظم (HOPG) بهمنظور مطالعه مکانیزم جوانهزنی و رشد و همچنین بهدست آوردن مزوکریستالهای سهبعدی تحت شرایط مختلف از قبیل :غلظت الکترولیت، پتانسیل اعمالی و زمان رسوبدهی از محلولهای نیتراتی با استفاده از آزمونهای ولتامتری چرخهای(CV) ، گذارهای جریان پتانسیواستاتیک(CA) ، میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM) و پراش اشعه ایکس (XRD) مورد مطالعه قرار گرفت .تجزیه و تحلیل نمودارهای CV نشان داد که لایهنشانی الکتروشیمیایی فلز بیسموت فرآیندی نیمه برگشتپذیر و تحت کنترل نفوذ است .گذارهای جریان برای لایهنشانی الکتروشیمیایی بیسموت طبق مدل شریفکر-هیلز تجزیه و تحلیل شد و نتیجه گرفته شد که مکانیزم جوانهزنی و رشد تحت جوانهزنی و رشد پیشرونده سهبعدی انجام شده است .بررسی تصاویر SEM نشان داد، مورفولوژی رسوبات بهدست آمده با استفاده از روش کرونوآمپرومتری تک-پالسی بهشدت تحت تأثیر پتانسیل اعمالی و غلظت الکترولیت است؛ بطوریکه با استفاده از این روش، در هر پتانسیل اعمالی و غلظت الکترولیت مشخص، مزوذرات سنتز شده بر روی سطح هر زیرلایه دارای مورفولوژیهای گوناگونی بودند .در مقابل، لایهنشانی الکتروشیمیایی به روش کرونوآمپرومتری دو-پالسی منجر به سنتز مزوذرات بیسموت با مورفولوژیهای تقریبا یکسان بر روی سطح هر زیرلایه شد و تغییر پارامترهای لایهنشانی الکتروشیمیایی شامل :غلظت، پتانسیل اعمالی و زمان در هر دو پالس جوانهزنی و رشد باعث تغییر در مورفولوژی و چگالی مزوذرات بیسموت هر نمونه با نمونه دیگر شد .بررسی نتایج XRD نشان میدهد که جهت ترجیحی رشد مزوذرات سهبعدی بیسموت به روش لایهنشانی الکتروشیمیایی( کرونوآمپرومتری تک یا دو پالسی) بستگی دارد .بطوریکه، برای مزوذرات بیسموت لایهنشانی الکتروشیمیایی شده بهروش کرونوآمپرومتری دو-پالسی جهت رشد در طول( ۰۱۲) را نشان میدهد .درحالیکه، برای مزوذرات لایهنشانی الکتروشیمیایی شده بهروش کرونوآمپرومتری تک-پالسی، سه جهت رشد در طول صفحات( ۰۱۲)،( ۱۰۴) و( ۱۲۲) را نشان میدهد که جهتگیری غالب رشد در طول( ۰۱۲) است.
PARALLEL TITLE PROPER
Parallel Title
The effect of electrodeposition parameters on the morphology of Bismuth mesocrystals