1. Handbook of plasma processing technology : fundamentals, etching, deposition, and surface interactions
پدیدآورنده : edited by Stephen M. Rossnagel, Jerome J. Cuomo, William D. Westwood
کتابخانه: کتابخانه مرکزی پردیس 1 فنی دانشگاه تهران (طهران)
موضوع : Plasma engineering,Semiconductors - Etching,Plasma etching
رده :
TA
2020
.
H37
1990
2. Handbook of plasma processing technology : fundamentals, etching, deposition, and surface interactions
پدیدآورنده : edited by Stephen M. Rossnagel, Jerome J. Cuomo, William D. Westwood
کتابخانه: کتابخانه پرديس 2 دانشکدههای فنی دانشگاه تهران (طهران)
موضوع : Plasma engineering,Semiconductors - Etching,Plasma etching
رده :
TA
2020
.
H37
1990
