عرض القائمة
الرئیسیة
البحث المتقدم
قائمة المکتبات
إختر اللغة
فارسی
English
العربی
عنوان
Principles of plasma discharges and materials processing
پدید آورنده
/ Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
موضوع
Plasma dynamics,Thin films, Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry, Industrial applications
رده
QC718
.
5
.
D9L54
2005
کتابخانه
کتابخانه مرکزی و مرکز اطلاع رسانی دانشگاه محقق اردبیلی ره
محل استقرار
استان:
أردبیل
ـ شهر:
أردبیل
تماس با کتابخانه :
90
-
33512081
-
045
0471720011 (hardcover)
IR
8619
انگلیسی
IR
Principles of plasma discharges and materials processing
[Book]
/ Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
2nd ed.
Hoboken, N.J.
: Wiley-Interscience,
, c2005.
xxxv, 757 p. , ill. , 25 cm.
Language: انگلیسی
Print
Includes bibliographical references (p. 735-748) and index.
Plasma dynamics
Thin films, Surfaces
Plasma etching
Plasma chemistry, Industrial applications
530
.
4
.
4
QC718
.
5
.
D9L54
2005
Lieberman, M. A.(Michael A.)
Lichtenberg, Allan J
ایران
old catalog
p
BL
1
a
Y
الاقتراح / اعلان الخلل
×
الاقتراح / اعلان الخلل
×
تحذیر!
دقق في تسجیل المعلومات
اعلان الخلل
اقتراح