عرض القائمة
الرئیسیة
البحث المتقدم
قائمة المکتبات
إختر اللغة
فارسی
English
العربی
عنوان
Handbook of plasma processing technology : fundamentals, etching, deposition, and surface interactions
پدید آورنده
edited by Stephen M. Rossnagel, Jerome J. Cuomo, William D. Westwood
موضوع
Plasma engineering,Semiconductors - Etching,Plasma etching
رده
TA
2020
.
H37
1990
کتابخانه
کتابخانه مرکزی پردیس 1 فنی دانشگاه تهران
محل استقرار
استان:
طهران
ـ شهر:
طهران
تماس با کتابخانه :
61112227، 61112854 ، 61113031
لاتين
edited by Stephen M. Rossnagel, Jerome J. Cuomo, William D. Westwood
Handbook of plasma processing technology : fundamentals, etching, deposition, and surface interactions
Park Ridge, N.J., U.S.A.
Noyes Publications
1990
xxiii, 523 p. : ill. ; 25 cm
مرجع به حساب نمي آيد
Includes bibliographical references
Plasma engineering
Semiconductors - Etching
Plasma etching
TA
2020
.
H37
1990
عنوان
Cuomo, J. J.
Rossnagel, Stephen M.
Westwood, William D.(William Dickson)
1937-
الاقتراح / اعلان الخلل
×
الاقتراح / اعلان الخلل
×
تحذیر!
دقق في تسجیل المعلومات
اعلان الخلل
اقتراح