1. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: کتابخانه مرکزی، مرکز اسناد و تامین منابع علمی دانشگاه صنعتی سهند (آذربایجان شرقی)
موضوع : Plasma dynamics,Thin films, Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry
رده :
QC718
.
5
.
D9L54
1994
2. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: کتابخانه مرکزی و مرکز اطلاع رسانی دانشگاه محقق اردبیلی ره (اردبیل)
موضوع : Plasma dynamics,Thin films, Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry, Industrial applications
رده :
QC718
.
5
.
D9L54
2005
3. Principles of plasma discharges and materials processing]CD[
پدیدآورنده : Lieberman, M. A. ) Michael A.(, Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
موضوع : ، Plasma dynamics,Surfaces ، Thin films,، Plasma etching,، Plasma chemistry
۲ نسخه از این کتاب در ۲ کتابخانه موجود است.
4. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : Lieberman, M. A.) Michael A.(
موضوع : ، Plasma dynamics,، Thin films-- Surfaces,، Plasma etching,، Plasma chemistry
۳ نسخه از این کتاب در ۲ کتابخانه موجود است.
5. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: كتابخانه مركزی و مركز اسناد دانشگاه مازندران (مازندران)
موضوع : Plasma dynamics,Thin films- Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry- Industrial applications
رده :
QC718
.
5
.
D9
,
L54
2005
6. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: کتابخانه مرکزی، مرکز اسناد و تامین منابع علمی دانشگاه صنعتی سهند (آذربایجان شرقی)
موضوع : Plasma dynamics,Thin films- Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry- Industrial applications
رده :
QC718
.
5
.
D9L54
2005
7. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : Lieberman, M. A. )Michael A.(
کتابخانه: كتابخانه مركزی و مركز اسناد دانشگاه صنعتی خواجه نصير الدين طوسى (تهران)
موضوع : ، Plasma dynamics,Surfaces ، Thin films,، Plasma etching,Industrial applications ، Plasma chemistry
رده :
QC
718
.
5
.
D9
L54
2005
8. Regular and Chadtic Dynamics
پدیدآورنده : .A. J. Lichtenberg, M. A. Lieberman
موضوع : Nonlinear oscillations,Stochastic processes,Hamiltonian systems
۲ نسخه از این کتاب در ۲ کتابخانه موجود است.
9. Regular and chaotic dynamics
پدیدآورنده : A.J. Lichtenberg, M.A. Lieberman
کتابخانه: کتابخانه مرکزی دانشگاه ولی عصر(عج) رفسنجان (کرمان)
موضوع : Nonlinear oscillations,Stochastic processes,Hamiltonian systems
رده :
QA
867
.
5
.
A647
1992
10. Regular and chaotic dynamics
پدیدآورنده : Lichtenberg, Allan J.
کتابخانه: کتابخانه مرکزی و مرکز اطلاع رسانی دانشگاه فردوسی مشهد (خراسان رضوی)
موضوع : ، Nonlinear oscillators,، Stochastic processes,، Hamiltonian systems
رده :
QA
867
.
5
.
L53
1992
11. Regular and chaotic dynamics
پدیدآورنده : A.J. Lichtenberg, M.A. Lieberman
کتابخانه: کتابخانه مرکزی دانشگاه ولی عصر(عج) رفسنجان (کرمان)
موضوع : Nonlinear oscillations,Stochastic processes,Hamiltonian systems
رده :
QA
867
.
5
.
A647
1992
12. Regular and chaotic dynamics /
پدیدآورنده : A.J. Lichtenberg, M.A. Lieberman.
کتابخانه: مرکز و کتابخانه مطالعات اسلامی به زبان‌های اروپایی (قم)
موضوع : Hamiltonian systems.,Nonlinear oscillations.,Stochastic processes.,Oscillations non linéaires,Processus stochastiques,Systèmes hamiltoniens,Chaos (théorie des systèmes),Hamiltonian systems.,Hamilton-vergelijkingen.,Nonlinear oscillations.,Oscillations non linéaires.,Processos Estocasticos.,Processus stochastiques.,Sistemas Dinamicos.,Stochastic processes.,Stochastische processen.,Systèmes hamiltoniens.
رده :
QA1
.
A647
vol
.
38
1992
