عنوان
پدید آورنده
موضوع
رده
TK 7874 .53 .B67 2002
TK
7874
.
53
.
B67
2002
کتابخانه
محل استقرار
شابک
شابک
1-4020-7193-0
شماره کتابشناسی ملی
کد کشور
IR
شماره
192921
زبان اثر
زبان متن نوشتاري يا گفتاري و مانند آن
انگلیسی
کشور محل نشر یا تولید
کشور محل نشر
IR
عنوان و نام پديدآور
عنوان اصلي
Chemical-mechanical polishing of low dielectric constant polymers and organosilicate glasses
نام عام مواد
[Book]
ساير اطلاعات عنواني
: fundamental mechanisms and application to IC interconnect technology
نام نخستين پديدآور
/ by Christopher L. Borst, William N. Gill, Ronald J. Gutmann
وضعیت نشر و پخش و غیره
محل نشرو پخش و غیره
Boston
نام ناشر، پخش کننده و غيره
: Kluwer Academic Publishers
تاریخ نشرو بخش و غیره
, c2002
مشخصات ظاهری
نام خاص و کميت اثر
xiv, 229 p.
ساير جزييات
:ill., diagrs.
ابعاد
; 25 cm
يادداشت کلی
متن يادداشت
English
یادداشتهای مربوط به کتابنامه ، واژه نامه و نمایه های داخل اثر
متن يادداشت
Includes bibliographical references and index
عنوانهای گونه گون دیگر
عنوان گونه گون
fundamental mechanisms and application to IC interconnect technology
موضوع (اسم عام یاعبارت اسمی عام)
موضوع مستند نشده
Interconnects (Integrated circuit technology)
موضوع مستند نشده
Semiconductors -- Polishing
موضوع مستند نشده
Grinding and polishing
موضوع مستند نشده
Chemical mechanical planarization
رده بندی کنگره
شماره رده
TK
7874
.
53
نشانه اثر
.
B67
2002
نام شخص به منزله سر شناسه - (مسئولیت معنوی درجه اول )
مستند نام اشخاص تاييد نشده
Borst, Christopher L, author
نام شخص - ( مسئولیت معنوی درجه دوم )
مستند نام اشخاص تاييد نشده
Gill, William N
مستند نام اشخاص تاييد نشده
Gutmann, Ronald J
مبدا اصلی
کشور
Iran
سازمان
University of Tehran. Kish International Campus
وضعیت فهرست نویسی
وضعیت فهرست نویسی
Old cataloging
وضعیت انتشار
فرمت انتشار
p
اطلاعات رکورد کتابشناسی
نوع ماده
BL
پیشوند ISBD اعمال شده است
1
اطلاعات دسترسی رکورد
تكميل شده
Y
