شابک
شابک
0815512201
شماره کتابشناسی ملی
کد کشور
IR
شماره
E-2028
زبان اثر
زبان متن نوشتاري يا گفتاري و مانند آن
انگلیسی
کشور محل نشر یا تولید
کشور محل نشر
IR
عنوان و نام پديدآور
عنوان اصلي
Handbook of plasma processing technology
نام عام مواد
[Book]
ساير اطلاعات عنواني
:fundamentals, etching, deposition, and surface interactions
نام نخستين پديدآور
/ edited by Stephen M. Rossnagel, Jerome J. Cuomo, William D. Westwood
وضعیت نشر و پخش و غیره
محل نشرو پخش و غیره
Park Ridge, N.J., U.S.A.
نام ناشر، پخش کننده و غيره
: Noyes Publications,
تاریخ نشرو بخش و غیره
, c1990.
مشخصات ظاهری
نام خاص و کميت اثر
xxiii, 523 p. , ill. , 25 cm.
فروست
عنوان فروست
(Materials science and process technology series.)
یادداشتهای مربوط به نشر، بخش و غیره
متن يادداشت
Print
یادداشتهای مربوط به کتابنامه ، واژه نامه و نمایه های داخل اثر
متن يادداشت
Includes bibliographical references.
یادداشتهای مربوط به مندرجات
متن يادداشت
Microstructural control of plasma-sputtered refractory coatings / David M. Hoffman and Robert C. McCune.
متن يادداشت
Hollow cathode etching and deposition / Chris M. Horwitz -- Ion platting / Donald M. Mattox -- Ionized cluster beam (ICB) deposition techniques / Isao Yamada -- The activated reactive evaporation (ARE) process / Chandra V. Deshpandey and Rointan F. Bunshah -- Formation of thin films by remote plasma enhanced chemical vapor deposition (Remote PECVD) / Gerold Lucovsky, David V. Tsu and Robert J. Markunas -- Selective bias sputter deposition / Soren Berg and Claes Nender -- Formation of thin films by remote plasma enhanced chemical vapor deposition (Remote PECVD) / Gerold Lucovsky, David V. Tsu and Robert J. Markunas -- Selective bias sputter deposition / Soren Berg and Claes Nender -- Vacuum arc-based processing / David Sanders -- Ion-surface interactions : general understandings / Russell Messier, Joseph E. Yehoda and Lawrence J. Pilione -- Ion assisted deposition / James J. McNally.
متن يادداشت
Techniques for IC processing / David B. Fraser and William D. Westwood -- Introduction to plasma concepts and discharge configurations / Joseph L. Cecchi -- Fundamentals of sputtering and reflection / David N. Ruzic -- Bombardment-induced compositional change with alloys, oxides, oxysalts, and halides / Roger Kelly -- RF diode sputter etching and deposition / Joseph S. Logan -- Magnetron plasma deposition processes / Stephen M. Rossnagel -- Broad-beam ion sources / Harold R. Kaufman and Raymond S. Robinson -- Reactive ion etching / Gottlieb S. Oehrlein -- Reactive sputter deposition / William D. Westwood -- Plasma enhanced chemical vapor deposition of thin films for microelectronics / Rafael Reif -- Electron cyclotron resonance microwave discharges for etching and thin film deposition / Jes Asmussen.
موضوع (اسم عام یاعبارت اسمی عام)
موضوع مستند نشده
Plasma engineering
موضوع مستند نشده
Semiconductors, Etching
موضوع مستند نشده
Plasma etching
رده بندی کنگره
شماره رده
TA2020
نشانه اثر
.
H37
1990
نام شخص - ( مسئولیت معنوی درجه دوم )
مستند نام اشخاص تاييد نشده
Rossnagel, Stephen M
مستند نام اشخاص تاييد نشده
Cuomo, J. J
مستند نام اشخاص تاييد نشده
Westwood, William D.(William Dickson),1937-
مبدا اصلی
کشور
ایران
دسترسی و محل الکترونیکی
نام ميزبان
۴۵۶۳۰۱۲۴۵۸
شماره دسترسي
عادی
اطلاعات مختصر
عادی
نام الکترونيکي
E-2028.DJVU
بيت در ثانيه
3716332
ارتباط براي تسهيلات دسترسي
مدیر
نوع فرمت الکترونيکي
متن
اندازه فايل
0
شماره کنترل رکورد
E-2028
وضعیت فهرست نویسی
وضعیت فهرست نویسی
old catalog
وضعیت انتشار
فرمت انتشار
p
اطلاعات رکورد کتابشناسی
نوع ماده
BL
پیشوند ISBD اعمال شده است
1
اطلاعات دسترسی رکورد
سطح دسترسي
a
تكميل شده
Y
