نمایش منو
صفحه اصلی
جستجوی پیشرفته
فهرست کتابخانه ها
عنوان
Principles of plasma discharges and materials processing
پدید آورنده
/ Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
موضوع
Plasma dynamics,Thin films- Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry- Industrial applications
رده
QC718
.
5
.
D9
,
L54
2005
کتابخانه
كتابخانه مركزی و مركز اسناد دانشگاه مازندران
محل استقرار
استان:
مازندران
ـ شهر:
بابلسر
تماس با کتابخانه :
62
-
35302861
-
011
شابک
شابک
0471720011
شماره کتابشناسی ملی
شماره
25051
زبان اثر
زبان متن نوشتاري يا گفتاري و مانند آن
eng
عنوان و نام پديدآور
عنوان اصلي
Principles of plasma discharges and materials processing
نام نخستين پديدآور
/ Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
وضعیت ویراست
وضعيت ويراست
2nd ed.
وضعیت نشر و پخش و غیره
محل نشرو پخش و غیره
Hoboken, N.J
نام ناشر، پخش کننده و غيره
: .Wiley-Interscience
تاریخ نشرو بخش و غیره
,c2005.
مشخصات ظاهری
نام خاص و کميت اثر
xxxv, 757 p
ساير جزييات
. ill. 25 cm.
يادداشت کلی
متن يادداشت
Language: انگلیسی
یادداشتهای مربوط به نشر، بخش و غیره
متن يادداشت
Print
یادداشتهای مربوط به کتابنامه ، واژه نامه و نمایه های داخل اثر
متن يادداشت
Includes bibliographical references (p. 735-748) and index.
موضوع (اسم عام یاعبارت اسمی عام)
عنصر شناسه ای
Plasma dynamics
عنصر شناسه ای
Thin films- Surfaces
عنصر شناسه ای
Plasma etching
عنصر شناسه ای
Plasma chemistry- Industrial applications
رده بندی ديویی
شماره
530
.
4
.
4
نام شخص به منزله سر شناسه - (مسئولیت معنوی درجه اول )
مستند نام اشخاص تاييد نشده
Lieberman, M. A.(Michael A.)
نام شخص - ( مسئولیت معنوی درجه دوم )
مستند نام اشخاص تاييد نشده
Lichtenberg, Allan J
وضعیت فهرست نویسی
وضعیت فهرست نویسی
old catalog
پیشنهاد / گزارش اشکال
×
پیشنهاد / گزارش اشکال
×
اخطار!
اطلاعات را با دقت وارد کنید
گزارش خطا
پیشنهاد