عنوان
پدید آورنده
موضوع
رده
کتابخانه
محل استقرار
شابک
شابک
1437778593
شابک
9781437778595
شماره کتابشناسی ملی
شماره
b402249
عنوان و نام پديدآور
عنوان اصلي
Advances in CMP/polishing technologies for the manufacture of electronic devices
نام عام مواد
[Book]
نام نخستين پديدآور
edited by Toshiro Doi, Ioan D. Marinescu, Syuhei Kurokawa.
وضعیت نشر و پخش و غیره
محل نشرو پخش و غیره
New York :
نام ناشر، پخش کننده و غيره
Elsevier,
تاریخ نشرو بخش و غیره
c2012.
یادداشتهای مربوط به کتابنامه ، واژه نامه و نمایه های داخل اثر
متن يادداشت
Includes bibliographical references and index.
یادداشتهای مربوط به خلاصه یا چکیده
متن يادداشت
CMP and polishing are the most precise processes used to finish the surfaces of mechanical and electronic or semiconductor components. --P. 4 of cover.
عنوان اصلی به زبان دیگر
عنوان اصلي به زبان ديگر
CMP polishing technologies for the manufacture of electronic devices
موضوع (اسم عام یاعبارت اسمی عام)
موضوع مستند نشده
Chemical mechanical planarization.
موضوع مستند نشده
Electrolytic polishing.
موضوع مستند نشده
Grinding and polishing.
نام شخص - (مسئولیت معنوی برابر )
مستند نام اشخاص تاييد نشده
Doi, Toshiro K.,1947-
مستند نام اشخاص تاييد نشده
Kurokawa, Syuhei.
مستند نام اشخاص تاييد نشده
Marinescu, Ioan D.
نام تنالگان _ (مسئولیت معنوی برابر)
مستند نام تنالگان تاييد نشده
ScienceDirect (Online service).
مبدا اصلی
تاريخ عمليات
20190423124759.0
دسترسی و محل الکترونیکی
نام الکترونيکي
مطالعه متن کتاب اطلاعات رکورد کتابشناسی
نوع ماده
[Book]
اطلاعات دسترسی رکورد
تكميل شده
Y
