عنوان
پدید آورنده
موضوع
رده
کتابخانه
محل استقرار
شابک
شابک
1-4020-7193-0
زبان اثر
زبان متن نوشتاري يا گفتاري و مانند آن
لاتين
زبان متن نوشتاري يا گفتاري و مانند آن
انگليسي
عنوان و نام پديدآور
نام نخستين پديدآور
by Christopher L. Borst, William N. Gill, Ronald J. Gutmann
نام ساير پديدآوران
author
عنوان اصلي
Chemical-mechanical polishing of low dielectric constant polymers and organosilicate glasses : fundamental mechanisms and application to IC interconnect technology
وضعیت نشر و پخش و غیره
محل نشرو پخش و غیره
Boston
نام ناشر، پخش کننده و غيره
Kluwer Academic Publishers
تاریخ نشرو بخش و غیره
c2002
مشخصات ظاهری
نام خاص و کميت اثر
xiv, 229 p. :ill., diagrs.; 25 cm
یادداشتهای مربوط به بسته بندی و دسترس بودن اثر
متن يادداشت
مرجع به حساب نمي آيد
یادداشتهای مربوط به کتابنامه ، واژه نامه و نمایه های داخل اثر
متن يادداشت
Includes bibliographical references and index
عنوانهای گونه گون دیگر
عنوان گونه گون
fundamental mechanisms and application to IC interconnect technology
موضوع (اسم عام یاعبارت اسمی عام)
عنصر شناسه ای
Interconnects (Integrated circuit technology)
عنصر شناسه ای
Semiconductors -- Polishing
عنصر شناسه ای
Grinding and polishing
عنصر شناسه ای
Chemical mechanical planarization
رده بندی کنگره
شماره رده
TK
7874
.
53
.
B67
2002
نام شخص به منزله سر شناسه - (مسئولیت معنوی درجه اول )
عنصر شناسه اي
مولف
کد نقش
Borst, Christopher L
نام شخص - ( مسئولیت معنوی درجه دوم )
عنصر شناسه اي
Gill, William N
عنصر شناسه اي
Gutmann, Ronald J
