اثر آنیلسازی حرارتی بر تغییرات ساختاری نانوکامپوزیت های TiN/a-Ni-nc تولید شده به روش رسوب گذاری فیزیکی بخار
[پایاننامه]
/احسان شاهزاده
دانشگاه صنعتی سهند
، ۱۳۸۸
۱۲۱ ص۰
چاپی - الکترونیکی
کتابنامه در آخر پایان نامه
کارشناسی ارشد
مهندسی مواد
دانشگاه صنعتی سهند
پوشش نانوکامپوزیتی nc-TiN/a-Ni سختی بالا در حد Gpa ۳۵-۴۵ و چقرمگی بالایی از خود نشان میدهد۰ پایداری حرارتی این پوشش در این تحقیق مورد مطالعه قرار گرفته است۰ دو نوع پوشش رسوب داده شده با کمک پرتو یونی و کند و پاش مگنترون غیره تعادلی مورد بررسی قرار گرفتهاند۰ برای مشاهده و برآورد پایداری حرارتی و رشد احتمالی اندازه دانه، یک بازه دمایی از ۵۰۰ تا ۱۰۰۰ درجه سانتیگراد در نظر گرفته شد که با تقسیم این بازه با شش مرحله ۱۰۰ درجهای از ۵۰۰ تا ۱۰۰۰ درجه عملیات آنیل به مدت یک ساعت در هر مرحله انجام گردید۰ عملیات آنیلسازی در شرایط torr ۱۰ بتوان منفی ۵ برای جلوگیری از هرگونه واکنش احتمالی سطح نمونه با اتمسفر انجام گردید۰ بعد از هر مرحله تفرق اشعه X از نمونه به عمل آمد۰ تحلیل الگوی تفرق با روش برازش پزدو-ووید و شرر برای تک پیک انجام شد۰ رشد اندازه دانه از یکروند آرام تبعیت میکند نمونههای Tin روند رشد سریعتری از خود نشان میدهند۰ در مورد تمامی پوششهای مطالعه شده، تغییرات فازی قابل آشکارسازی باتفرق اشعه X بین اجزا سازنده اصلی پوشش مشاهده نگردید ولی نیکل موجود در پوشش با جسم زیر لایه سیلیسیمی منجر به تشکیل فازهای NiSi و NiSi۲ میشود۰ بررسی تغییرات پارامتر شبکه کریستالی TiN راستای عمود بر سطح نشان داد که با انجام مراحل اولیه آنیل نوع تنش در پوشش از فشاری به کششی تبدیل میشود۰ نرخ تغییرات تنشهای پسماند در پوششهای تولید شده با روش کند و پاش با پرتو یونی بیشتر بوده و گذر از حالت کششی به فشاری دردماهای بالاتری اتفاق میافتد۰