1. Principles of plasma discharges and materials processing]CD[
پدیدآورنده : Lieberman, M. A. ) Michael A.(, Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: كتابخانه و مركز اسناد دانشگاه كردستان (کردستان)
موضوع : ، Plasma dynamics,Surfaces ، Thin films,، Plasma etching,، Plasma chemistry
رده :
QC718
.
5
.
D9
L54
]
CD
[
