نمایش منو
صفحه اصلی
جستجوی پیشرفته
فهرست کتابخانه ها
انتخاب زبان
فارسی
English
العربی
عنوان
Dusty plasmas : physics, chemistry, and technological impacts in plasma processing
پدید آورنده
edited by Andre Bouchoule
موضوع
، Plasma engineering,Industrial applications( ، Plasma )Ionized gases(,، Dusty plasmas,، Plasma chemistry,، Plasma-enhanced chemical vapor deposition
رده
TA
2020
.
D8
کتابخانه
کتابخانه پژوهشگاه دانشهای بنیادی
محل استقرار
استان:
تهران
ـ شهر:
تهران
تماس با کتابخانه :
22291812
-
021
عنوان و نام پديدآور
عنوان اصلي
Dusty plasmas : physics, chemistry, and technological impacts in plasma processing
وضعیت نشر و پخش و غیره
محل نشرو پخش و غیره
Chichester
نام ناشر، پخش کننده و غيره
Wiley
تاریخ نشرو بخش و غیره
c1999
مشخصات ظاهری
نام خاص و کميت اثر
]ix[, 408 p.: ill., tables.
يادداشت کلی
متن يادداشت
Includes bibliographies
متن يادداشت
ISBN 0471973866
یادداشتهای مربوط به عنوان و پدیدآور
متن يادداشت
edited by Andre Bouchoule
یادداشت های مربوط به نسخه اصلی
متن يادداشت
1
موضوع (اسم عام یاعبارت اسمی عام)
عنصر شناسه ای
، Plasma engineering
عنصر شناسه ای
Industrial applications( ، Plasma )Ionized gases(
عنصر شناسه ای
، Dusty plasmas
عنصر شناسه ای
، Plasma chemistry
عنصر شناسه ای
، Plasma-enhanced chemical vapor deposition
رده بندی کنگره
شماره رده
TA
2020
.
D8
نام شخص به منزله سر شناسه - (مسئولیت معنوی درجه اول )
کد نقش
TI
نام / عنوان به منزله شناسه افزوده
عنصر شناسه اي
AU Bouchoule, Andre
پیشنهاد / گزارش اشکال
×
پیشنهاد / گزارش اشکال
×
اخطار!
اطلاعات را با دقت وارد کنید
گزارش خطا
پیشنهاد