در این پژوهش از مدل سیالی استاندارد جهت مطالعه دینامیک پلاسما و ذرات غبار در ناحیه غلاف استفاده شده است .برای این منظور پلاسمای مورد نظر یک پلاسمای غیر تعادلی با دمای الکترونی و یونی متفاوت در نظر گرفته شده و چگالی پلاسما از تا که محدوده پلاسماهای CCP تا ICP را شامل می شود، تغییر می کند و ذرات غبار با شعاع هایی از محدوده چند صد نانومتر فرض شده اند .هدف از این پژوهش، شبیه سازی غلاف پلاسما در حضور دو اثر گسیل فوتونی و گسیل ثانویه با به کار گیری روش های تحلیلی، عددی و تجربی مناسب می باشد .در این راستا، ابتدا مسئله شکل گیری غلاف در مرز پلاسما که یک مسئله بسیار مهم در کاربردهایی شامل پروپ های پلاسمایی، فرآوری مواد توسط پلاسمای دما پایین و همچنین مطالعه گداخت است، مورد بررسی قرار گرفته است .غلاف پلاسما شامل نانوذرات باردار در حضور میدان مغناطیسی، الکترون های دو دمایی، باریکه ای از الکترون های پر انرژی، گونه های یونی مثبت و ذرات غبار با شعاع های مختلف در نظرگرفته شده است .سپس، با توجه به نمودارهای حاصله از شبیه سازی عددی، اثرات هر یک از موارد بالا در غلاف پلاسما را مطالعه کرده ایم .در مرحله دوم، شبیه سازی عددی معادلات چند سیالی برای مطالعه اثرات یک شار فوتونی جهت دار بر روی ساختار غلاف یک پلاسمای الکتروستاتیک در حضور دانه های غباری نانوسایز به کار گرفته شده است .نتایج نشان می دهند که با افزایش شار فوتونی و همچنین بازده فوتوالکتریک ضخامت غلاف کاهش می یابد و این اثر در پلاسماهایی با چگالی بالا برجسته تر است .با افزایش شار تابشی، در شارهای متوسط بار مطلق غبار تا زمانی که تغییر علامت دهد و مثبت شود فورا کاهش می یابد و سپس به آرامی افزایش می یابد .نیروی کشش یونی نیز با گسیل فوتونی کاهش می یابد، در حالی که نیروی الکتریکی افزایش می یابد .اثر خالص، افزایش نیروی کل بر روی دانه های غباری است که به سمت لبه غلاف در حال حرکت هستند و این واقعه منجر به کاهش قابل توجه سرعت غبار و در نتیجه افزایش چگالی غبار در سراسر غلاف می شود .در مرحله سوم، شبیه سازی های عددی چند سیالی برای توصیف اثرات گسیل ثانویه توسط نانو ذرات غبار بر روی ساختار غلاف یک پلاسمای غباری در حضور یک پرتو الکترونی سریع و تک انرژی به کار گرفته شده است .این گونه نتیجه گیری شده است که دینامیک غلاف شدیدا به اندازه بازده گسیل ثانویه بستگی دارد .برای های کوچکتر از یک، گسیل ثانوی ضعیف بوده و همواره ضخامت غلاف با افزایش شار پرتو افزایش می یابد .بنابراین، در شار پرتوی مشخص، غلاف یک انتقال بسیار سریع از ناحیه غلاف باریک به ناحیه غلاف ضخیم را تجربه می کند .برای های بزرگتر از یک، گسیل ثانویه، دینامیک غلاف را برجسته تر می کند و همواره ضخامت غلاف با افزایش شار پرتو کاهش می یابد .همواه ضخامت غلاف با افزایش بازده گسیل ثانویه سریعا کاهش می یابد، ولی با افزایش یعنی انرژی مشخصه مطابق با گسیل ثانویه ماکزیمم، ضخامت غلاف افزایش می یابد .زمانیکه بازده گسیل ثانویه افزایش می یابد، بار مطلق غبار و در نتیجه نیروی کشش یونی شتاب دهنده کاهش می یابد .سپس سرعت غبار کندتر شده و در نتیجه چگالی غبار افزایش می یابد .افزایش شعاع غبار و یا چگالی غبار، منجر به افزایش اثر گسیل ثانویه شده و در نتیجه ضخامت غلاف کاهش می یابد.
نام شخص به منزله سر شناسه - (مسئولیت معنوی درجه اول )