عنوان

Vakuumbeschichtung :

شابک

3642579051

شابک

3642633986

شابک

9783642579059

شابک

9783642633980

شماره

b570873

عنوان اصلي

Vakuumbeschichtung :

نام عام مواد

[Book]

ساير اطلاعات عنواني

Verfahren und Anlagen

نام نخستين پديدآور

von Uwe Behringer, Helmut Gärtner, Reinar Grün, Gerhard Kienel, Michael Knepper, Erich Lugscheider, Hans Oechsner, Georg Wahl, Jürgen Waldorf, Gerhard K. Wolf ; herausgegeben von Gerhard Kienel, Klaus Röll.

محل نشرو پخش و غیره

Berlin, Heidelberg

نام ناشر، پخش کننده و غيره

Springer Berlin Heidelberg : Imprint : Springer

تاریخ نشرو بخش و غیره

1995

عنوان فروست

VDI-Buch.

متن يادداشت

1 Vakuumbeschichtungsverfahren --; Übersicht --; 2 Bedeutung der Vakuumtechnik für die Beschichtungstechnik --; 2.1 Vorbemerkungen --; 2.2 Einfluß der Restgase auf die Schichtreinheit --; 2.3 Vakuumerzeugung --; 2.4 Vakuummessung --; 3 Aufdampfen im Hochvakuum --; 3.1 Vorbemerkungen --; 3.2 Physikalische Grundlagen --; 3.3 Anlagentechnik --; 4 Ionenplattieren --; 4.1 Einleitung --; 4.2 Ionenplattierungsprozeß --; 4.3 Anlagentechnik --; 4.4 Entwicklungsstand und Ausblick --; 5 Ionenzerstäubung von Festkörpern (Sputtering) --; 5.1 Einführung --; 5.2 Beschreibung des Zerstäubungsprozesses --; 5.3 Plasmagestützte Zerstäubungsverfahren --; 5.4 Anlagentechnik --; 6 Teilchenstrahlgestützte Verfahren --; 6.1 Einleitung --; 6.2 Teilchenstrahlquellen --; 6.3 Anwendung niederenergetischer Ionen- und Plasmastrahlen --; 6.4 Teilchenstrahlunterstützte Beschichtung (IBAD) --; 6.5 Ionenstrahlimplantation --; 6.6 Ionenstrahlmischen --; 7 Erzeugung von Mikrostrukturen an Oberflächen und dünnen Schichten --; 7.1 Plasmamethoden --; 7.2 Teilchenstrahlmethoden in ihrer Anwendung in der Lithographie --; 8 Plasmabehandlungsmethoden --; 8.1 Plasmadiffusionsverfahren --; 8.2 Pulsimplantation --; 9 Plasmaspritzen --; 9.1 Vorbemerkungen --; 9.2 Funktionsprinzip des Plasmaspritzens --; 9.3 Verfahrensvarianten --; 9.4 Anlagentechnik --; 10 Abscheidung aus der Gasphase --; 10.1 Physikalisch-chemische Grundlagen --; 10.2 Produktionssysteme für CVD-Prozesse --; 10.3 Modifizierung des Beschichtungsprozesses durch ein Plasma --; 10.4 Modifizierung der Gasphase durch Photo-CVD --; 10.5 Plasmapolymerisation --; Literatur --; Sachwortverzeichnis --; Autorenverzeichnis.

متن يادداشت

Schwerpunkte in Band 2 bilden das Aufdampfen im Hochvakuum, das Ionenplattieren, die Kathodenzerstäubung, teilchengestützte Verfahren, die Erzeugung von Mikrostrukturen, Plasmabehandlungsverfahren und die Abscheidung aus der Gasphase (CVD).

موضوع مستند نشده

Engineering.

موضوع مستند نشده

Structural control (Engineering)

مستند نام اشخاص تاييد نشده

von Uwe Behringer, Helmut Gärtner, Reinar Grün, Gerhard Kienel, Michael Knepper, Erich Lugscheider, Hans Oechsner, Georg Wahl, Jürgen Waldorf, Gerhard K. Wolf ; herausgegeben von Gerhard Kienel, Klaus Röll.

مستند نام اشخاص تاييد نشده

Erich Lugscheider

مستند نام اشخاص تاييد نشده

Georg Wahl

مستند نام اشخاص تاييد نشده

Gerhard K Wolf

مستند نام اشخاص تاييد نشده

Gerhard Kienel

مستند نام اشخاص تاييد نشده

Hans Oechsner

مستند نام اشخاص تاييد نشده

Helmut Gärtner

مستند نام اشخاص تاييد نشده

Jürgen Waldorf

مستند نام اشخاص تاييد نشده

Klaus Röll

مستند نام اشخاص تاييد نشده

Michael Knepper

مستند نام اشخاص تاييد نشده

Reinar Grün

مستند نام اشخاص تاييد نشده

Uwe Behringer

نام الکترونيکي

نوع ماده

[Book]

تكميل شده

Y