L.F. Thompson, editor, C.G. Willson, editor, M.J. Bowden, editor ; based on a workshop sponsored by the ACS Division of Organic Coatings and Plastics Chemistry at the 185th Meeting of the American Chemical Society, Seattle, Washington, March 20-25, 1983
مشخصات ظاهری
نام خاص و کميت اثر
ix, 363 pages :
ساير جزييات
illustrations ;
ابعاد
24 cm
فروست
عنوان فروست
ACS symposium series,
مشخصه جلد
219
شاپا ي ISSN فروست
0097-6156 ;
یادداشتهای مربوط به کتابنامه ، واژه نامه و نمایه های داخل اثر
متن يادداشت
Includes bibliographical references and index
یادداشتهای مربوط به مندرجات
متن يادداشت
An introduction to lithography / L.F. Thompson -- The lithographic process--the physics / L.F. Thompson and M.J. Bowden -- Organic resist materials--theory and chemistry / C. Grant Willson -- Resist processing / L.F. Thompson and M.J. Bowden -- Plasma etching / J.A. Mucha and D.W. Hess -- Multi-layer resist systems / B.J. Lin
بدون عنوان
0
موضوع (اسم عام یاعبارت اسمی عام)
موضوع مستند نشده
Microlithography, Congresses
موضوع مستند نشده
Photoresists, Congresses
موضوع مستند نشده
Plasma etching, Congresses
نام شخص - (مسئولیت معنوی برابر )
مستند نام اشخاص تاييد نشده
Bowden, M. J.,1943-
مستند نام اشخاص تاييد نشده
Thompson, L. F.,1944-
مستند نام اشخاص تاييد نشده
Willson, C. G., (C. Grant),1939-
نام تنالگان _ (مسئولیت معنوی برابر)
مستند نام تنالگان تاييد نشده
American Chemical Society., Division of Organic Coatings and Plastics Chemistry
مستند نام تنالگان تاييد نشده
American Chemical Society., Meeting(185th :1983 :, Seattle, Wash.)