Microdevices, Physics and Fabrication Technologies
یادداشتهای مربوط به مندرجات
متن يادداشت
1. Transient Heating of Semiconductors by Radiation -- 2. Recrystallization of Implanted Layers and Impurity Behavior in Silicon Crystals -- 3. Crystallization, Impurity Diffusion, and Segregation in Polycrystalline Silicon -- 4. Component Evaporation, Defect Annealing, and Impurity Diffusion in the III-V Semiconductors -- 5. Diffusion Synthesis of Silicides in Thin-Film Metal-Silicon Structures -- 6. Rapid Thermal Oxidation and Nitridation -- 7. Rapid Thermal Chemical Vapor Deposition -- References.
بدون عنوان
0
یادداشتهای مربوط به خلاصه یا چکیده
متن يادداشت
Rapid thermal processing has contributed to the development of single wafer cluster processing tools and other innovations in integrated circuit manufacturing environments. Borisenko and Hesketh review theoretical and experimental progress in the field, discussing a wide range of materials, processes, and conditions. They thoroughly cover the work of international investigators in the field.
ویراست دیگر از اثر در قالب دیگر رسانه
شماره استاندارد بين المللي کتاب و موسيقي
9781489918062
قطعه
عنوان
Springer eBooks
موضوع (اسم عام یاعبارت اسمی عام)
موضوع مستند نشده
Optical materials.
نام شخص به منزله سر شناسه - (مسئولیت معنوی درجه اول )