1. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg.
کتابخانه: National Library and Archives of Islamic Republic of Iran (Tehran)
موضوع : دینامیک پلاسما,لایههای نازک -- رویهها,Plasma etching,Plasma chemistry -- Industrial applications
رده :
QC
۷۱۸
/
۵
/
د
۹
ل
۹ ۱۳۸۴
2. Principles of plasma discharges and materials processing]CD[
پدیدآورنده : Lieberman, M. A. ) Michael A.(, Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: Library and Documentation Center of Kurdistan University (Kurdistan)
موضوع : ، Plasma dynamics,Surfaces ، Thin films,، Plasma etching,، Plasma chemistry
رده :
QC718
.
5
.
D9
L54
]
CD
[
