لایه نشانی کروم کرباید بوسیله دستگاه پلاسمای کانونی و مطالعه خواص آن
General Material Designation
[پایاننامه]
Parallel Title Proper
Deposition of chromium carbide using plasma focus and study its properties
First Statement of Responsibility
/زهرا اسمعیلی
.PUBLICATION, DISTRIBUTION, ETC
Name of Publisher, Distributor, etc.
: علوم پایه
Date of Publication, Distribution, etc.
، ۱۳۹۸
PHYSICAL DESCRIPTION
Specific Material Designation and Extent of Item
۱۱۷ص.
Other Physical Details
:
GENERAL NOTES
Text of Note
زبان: فارسی
Text of Note
زبان چکیده: فارسی
NOTES PERTAINING TO PUBLICATION, DISTRIBUTION, ETC.
Text of Note
چاپی - الکترونیکی
NOTES PERTAINING TO PHYSICAL DESCRIPTION
Text of Note
مصور، جدول، نمودار
DISSERTATION (THESIS) NOTE
Dissertation or thesis details and type of degree
کارشناسی ارشد
Discipline of degree
فیزیک- اتمی و مولکولی- پلاسما
Date of degree
۱۳۹۸/۱۱/۰۱
Body granting the degree
صنعتی سهند
SUMMARY OR ABSTRACT
Text of Note
کروم کربایدها موادی هستند که به خاطر سختی بالا، چقرمگی و پایداری شیمیایی که دارند، شناخته شده اند .کروم کربایدها در سه حالت پایدار وجود دارند :مکعبی، شش ضلعی و راست گوشه ؛ این حالت ها به دلیل دوام عالی در برابر سایش، اکسایش و خوردگی و دارابودن ساختار محکم در کاربردهای دما بالا به عنوان روکش محافظتی استفاده می شوند .در این پروژه از یک پلاسما فوکوس چگال برای نهشت کروم کرباید روی زیرلایه استیل ۳۰۴ و سیلیکون استفاده شد .فیلم های لایه نازک با تعداد شات ثابت ۳۰ تحت زاویه صفر درجه نسبت به محور آند در فاصله ثابت ۸/۵ سانتی متری از بالای آند نهشت شدند .نمونههای نهشت شده به وسیله پراش اشعه ایکس، میکروسکوپ الکترونی روبشی فیلم های لایه نازک را تایید کرد .آنالیز EDX عناصر تشکیل دهنده فیلمهای لایه نشانی شده را معلوم کرد و آنالیز Mapping تقریبا توزیع همواری از کروم کرباید را ثابت کرد .
Text of Note
Chromium carbides are substances known for their high hardness, toughness and chemical stability. Chromium carbides exist in three stable states: cubic, hexagonal and right-hand corner. These modes are used as a protective coating due to their excellent wear, oxidation and corrosion resistance and durable structure in high temperature applications In this project, a dense focus plasma was used to deposit chromium carbide on the substrate 304 and silicon. Thin-layer films with a fixed number of 30 shots were deposited at a zero angle of 8.5 cm above the anode at a constant angle of 8.5 cm. Samples deposited by X-ray diffraction scanning electron microscopy revealed the presence of nanoparticles. EDX analysis confirmed the constituent elements of the layered films, and mapping analysis proved to be almost even distribution of chromium carbide
ba
PARALLEL TITLE PROPER
Parallel Title
Deposition of chromium carbide using plasma focus and study its properties