1. Handbook of plasma processing technology
پدیدآورنده : / edited by Stephen M. Rossnagel, Jerome J. Cuomo, William D. Westwood
کتابخانه: کتابخانه مرکزی و مرکز اطلاع رسانی دانشگاه محقق اردبیلی ره (أردبیل)
موضوع : Plasma engineering,Semiconductors- Etching,Plasma etching
رده :
TA2020
.
H37
1990
2. Handbook of plasma processing technology
پدیدآورنده : edited by Stephen M. Rossnagel, Jerome J. Cuomo, William D. Westwood.
کتابخانه: کتابخانه مطالعات اسلامی به زبان های اروپایی (قم)
موضوع : Plasma engineering.,Plasma etching.,Semiconductors-- Etching.
رده :
TA2020
.
H37
1990eb
3. Handbook of plasma processing technology
پدیدآورنده : / edited by Stephen M. Rossnagel, Jerome J. Cuomo, William D. Westwood
کتابخانه: المكتبة المركزية مركز التوثيق وتزويد المصادر العلمية (أذربایجان الشرقیة)
موضوع : Plasma engineering,Semiconductors, Etching,Plasma etching
رده :
TA2020
.
H37
1990
4. Handbook of plasma processing technology
پدیدآورنده : edited by Stephen M. Rossnagel, Jerome J. Cuomo, William D. Westwood.
کتابخانه: کتابخانه مطالعات اسلامی به زبان های اروپایی (قم)
موضوع : Plasma engineering.,Plasma etching.,Semiconductors-- Etching.
رده :
TA2020
.
H37
1990eb
5. Handbook of plasma processing technology :fundamentals, etching, deposition, and surface interactions
پدیدآورنده : edited by Stephen M. Rossnagel, Jerome J. Cuomo, William D. Westwood
کتابخانه: كتابخانه مركزي و مركز اسناد دانشگاه صنعتي خواجه نصير الدين طوسى (طهران)
موضوع : ، Plasma engineering,Etching ، Semiconductors,، Plasma etching
رده :
TA
2020
.
H37
