تعداد ۱ پاسخ غیر تکراری از ۱ پاسخ تکراری در مدت زمان ۲,۶۴ ثانیه یافت شد.

1. Advanced Ta-based diffusion barriers for Cu interconnects /

المؤلف: René Hübner.

المکتبة: کتابخانه مطالعات اسلامی به زبان های اروپایی (قم)

موضوع: Electrodiffusion.,Integrated circuits.,Interconnects (Integrated circuit technology),Electrodiffusion.,Integrated circuits.,Interconnects (Integrated circuit technology),TECHNOLOGY & ENGINEERING-- Electronics-- Circuits-- General.,TECHNOLOGY & ENGINEERING-- Electronics-- Circuits-- Integrated.

رده :

TK7874

تتم إدارة هذا الموقع عبر مؤسسة دار الحديث العلمية - الثقافية ومركز البحوث الكمبيوترية للعلوم الإسلامية (نور)
المكتبات هي المسؤولة عن صحة المعلومات كما أن الحقوق المعنوية للمعلومات متعلقة بها