عنوان
پدید آورنده
موضوع
رده
TS 695 .C54 1993
TS
695
.
C54
1993
کتابخانه
محل استقرار
Chemical vapor deposition : principles and applications
London
Academic Press
c1993
v, 677 p. :ill. ;24 cm
Includes bibliographical references and index.
edited by Michael L. Hitchman and Klavs F. Jensen
1
، Chemical vapor deposition
620/
.
44
TS
695
.
C54
1993
NO
TI
AU Hitchman, Michael L.
AU Jensen, Klavs F., 1952-
