عنوان
پدید آورنده
موضوع
رده
TS 695 .C54 1993
TS
695
.
C54
1993
کتابخانه
محل استقرار
0123496705
IR
27713
انگلیسی
IR
Chemical vapor deposition
[Book]
: principles and applications
/ edited by Michael L. Hitchman and Klavs F. Jensen
London, San Diego
: Academic Press
, 1993
v, 677p.
: ill.
; 24 cm
English
English
Includes bibliographical references
Chemical vapor deposition
Plasma-Enhanced chemical vapor deposition
TS
695
.
C54
1993
Hitchman, Michael L.
Jensen, Klavs F., 1952-
Iran
University of Tehran. Library of Technical Camp 2
Old cataloging
p
BL
1
Y
