عنوان
پدید آورنده
موضوع
رده
TA 2020 .D8
TA
2020
.
D8
کتابخانه
محل استقرار
Dusty plasmas : physics, chemistry, and technological impacts in plasma processing
Chichester
Wiley
c1999
]ix[, 408 p.: ill., tables.
Includes bibliographies
ISBN 0471973866
edited by Andre Bouchoule
1
، Plasma engineering
Industrial applications( ، Plasma )Ionized gases(
، Dusty plasmas
، Plasma chemistry
، Plasma-enhanced chemical vapor deposition
TA
2020
.
D8
TI
AU Bouchoule, Andre
