۷۶۳۳پ
per
اندازه گی‍ـری آهنگ لایه نشانی در فیلم های نازک تیتانیوم تهیه شده به روش کندوپاش پلاسمایی
/فرامرزهادیان
: دانشکده فیزیک
، فرخی
۹۶ص.
چاپی
کارشناسی ارش‍ــد
رشته فیزیک
۱۳۸۴/۱۱/۲۵
تبریز
مفید بودن خصوصیات لایههای نازک و جالب توجه بودن مطالعه به روی رفتار جامدهای دو بعدی باعث شده که چه از نظر عملی و چه از نظر تکنولوژی به لایههای نازک توجه ویژه‌ای شود . امروزه لایههای نازک در ساخت وسایل نوری ، الکترونیکی ، والکترواپتیکی ، آینه‌های لیزر، قطعات آکوستیکی و پوشش‌صهای محافظتی نقش اساسی دارند .یکی از موارد کاربرد لایه‌ها ی نازک در تهیه شیشه های رفلکس است .این شیشه ها علاوه بر زیبایی، عایق گرما بوده و همچنین منعکس کنند نور فرابنفش، مادون قرمز و حتی مرئی میباشند که بستگی به نوع ماد نهشته شده و ضخامت آن دارد .این شیشه ها با نشاندن یک یا چندین نوع پوشش از فلزات خاص و یا اکسید آنها تهیه می شود .در این کار تجربی Ti به روی شیشه نشانده شده و تغییر آهنگ نهشت فیلم با فاصله کاتد و زیرلایه و همین طور فشار در سه حالت مختلف با منابع تغذیه DC و RF بطور جداگانه و با هم بررسی شده است .مقایسه نتایج تجربی حاصله نشان می دهند که آهنگ نهشت متناسب با در حالات مختلف ذکر شده در بالاست .در فشارهای بالاتر آهنگ نهشت به خاطر پراکندگی اتم‌صهای کندوپاشی با مولکوصل‌صهای گاز باقیمانده، کاهش می یابد .تغییر از فاز آمورف به فاز بلوری در فیلم Ti با دما با استفاده از طیف XRD بررسی شده است .در دمای اتاق فیلم تشکیل شده، آمورف بوده و با بالا رفتن دما تحرک اتم‌صهای سطحی به آنها امکان می دهد که در جایگاه‌های شبکه‌ای خاص خود قرار گیرند.با منظم شدن ترتیب اتم‌صها، ساختار فیلم به حالت بلورین نزدیکتر می‌شود.همچنین تغییرات توپولوژی سطح فیلم‌ها بر حسب دما، با استفاده از تصویر برداری AFM بررسی گردید.تحلیل و بررسی تصاویر حاکی از این واقعیت است که در دمای بالا ، دانه‌های (Grains) سازند کریستالیت‌صها درشتتر بوده و قطر آنها در حدود ۵۰ نانومتر است.چسبندگی فیلم به زیرلایه با تغییرات توان و فشار نیز مورد بررسی قرار گرفت .نتایج نشان‌صدهنده اینست که با افزایش توان و کاهش فشار چسبندگی به-طور فاحشی افزایش می‌صیابد .
The usefulness of the properties of thin films and tremendous interest focused on the behavior of two dimentional solids have made thin films be very important both experimentally and also technologically. Today thin films play fundamental rule in the technology of optical, electronical, electro-optical devices, laser mirrors acoustical devices and surface protecting layers.One of the applications of thin layers is in the field of reflective glass. This glass apart from their beauty are non-heat conductive, reflect ultra-violet infrared and even visible lights depending upon the material and the layer thickness. This glass are simply prepared using several appropriate metallic layers or their oxides. n this experimental work, Ti layers were coated on the glass substrates and the variations of films deposition rate with target-substrate spacing as well as the inert gas pressure have been investigated in three different cases :1.DC source was on separately .RF source was on separately3.DC and RF sources were on simultaneously.Comparison of experimental results shows that deposition rate follows law in all the above mentioned cases. It is decreased at higher gas pressures due to the scattering of sputtered atoms with the residual gas molecules. XRD investigations show that phase change from amorphous to crystalline occurs at higher temperatures. At room temperature, films are amorphous in structure and they tend to become crystalline by increasing the substrate temperature. This is due to the increasing nature of surface mobility of deposited atoms on the substrate leading to short range order priodicity as they accommodate appropriate lattice sites. AFM micrographs taken from the film surfaces at different temperature reveal that by increasing temperature, the grain sizes of microcrystalls become bigger leading to grain sizes of about 50 nanometer. Measurement of adhesion film to the substrate indicate that by increasing of power and decrease of pressure, stickly adhesion increase.
هادیان،فرامرز
بیدادی،حسن، استادراهنما
خرم،سیروس، استادمشاور
نمایه‌سازی قبلی
