بهبود مقاومت به خوردگی و خود تمیز شوندگی نانو پوشش هوشمند ۲SiO بر روی زیر لایه آلومینیوم
[پایاننامه]
/بهاره جوانپور
: مهندسی مواد
، ۱۳۹۴
۱۷۴ ص
چاپی - الکترونیکی
کارشناسی ارشد
حفاظت از مواد و خوردگی
۱۳۹۴/۱۱/۰۰
صنعتی سهند
درطول دهههای اخیر توجهات ویژهای بر روی فرآیند سل-ژل معطوف شده است .فاکتور مهم و اساسی برای درک فرآیند سل-ژل وجود روشهای محاسباتی در معیار نانو فرآیندهای شیمیایی مثل هیدرولیز، پلیمریزاسیون تراکمی، آب زدایی و تراکم مواد می باشد .در این پژوهش جهت ایجاد فیلم نازک بر روی زیرلایهی آلومینیومی آندایز شده سل حاوی آلکواکسید فلزی از جمله پیش مادههای تترااتوکسیسیلان TEOS، و تریمتوکسیپروپیلسیلان TMPSi و ترکیب این پیش مادهها جهت ایجاد پوشش ۲SiO توسط روش سل-ژل استفاده شدند، همچنین تاثیر آببندی هیدروترمال سطح آندایز شده قبل از پوشش دهی و بهسازی سطح پس از پوشش دهی سطح بررسی شد .نمونهها توسط میکروسکوپ الکترونی روبشی گسیل میدانی ((FE-SEM) و آنالیز عنصری(EDS) ، میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM) و نقشه پراکندگی عناصر (line Scan) مورد مطالعه قرار گرفتند .همچنین مشخصه Ra زبری سطح و زاویهی تماس ایستایی آب اندازهگیری شد .جهت بررسی مقاومت به خوردگی نمونهها از آزمونهای اندازه گیری پتانسل مدار باز (OCP) و طیف نگاری امپدانس الکتروشیمیایی (EIS) استفاده شد .با توجه به نتایج (FE-SEM) در نمونهی آببندی هیدروترمال شده و پوشش داده شده توسط سل TMPSi مورفولوژی سطح نسبت به سایر نمونهها تغییر کرده و یک حالت رشتهای در میکرو ساختار سطح مشاهده میشود، این حالت رشتهای باعث افزایش زبری سطح شده است .درمیان تمام نمونهها نمونهی بهسازی شده با لایهی دوگانه سل TMPSi دارای بیشترین مقدار OCP که برابر با۳۰۱ - میلیولت نسبت به الکترود KCl اشباع میباشد .با تحلیل (EIS) دو نمونهی آببندی شدهی هیدروترمال و پوشش داده شده توسط سل TMPSi و نمونهی دارای لایهی دوگانه بهسازی شده توسط سل TMPSi بیشترین میزان مقاومت به خوردگی با Rct به ترتیب ۴۴۳ و ۷۲۷ کیلو اهم بیشترین مقاومت به خوردگی را از خود نشان میدهند