IR
۱۶۵۷ پ
فارسی
IR
مطالعه اثر غلظت حمام، pH و پارامترهای آبکاری الکتریکی بر روی رشد نانوسیم‌های آلیاژی CoNi
[پایان‌نامه]
/عنایت الله پناهی دانایی
: مهندسی مواد
، ۱۳۹۲
۹۹ ص
چاپی - الکترونیکی
کتابنامه در آخر پایان نامه
کارشناسی ارشد
مهندسی مواد
صنعتی سهند
رسوب‌دهی الکتروشیمیایی نانوسیم‌ها با استفاده از روش جریان متناوب درون تمپلیت اکسید آندی آلومینیوم، به دلیل حضور لایه مانع در انتهای حفرات تمپلیت، یکی از روش‌های مهم می‌باشد .این پژوهش به دو بخش تقسیم شده است .در بخش اول تمپلیت‌های اکسید آندی در دما و زمان‌های مختلف با استفاده از روش آندایزینگ دو مرحله‌ای تولید شدند .اثر پارامترهای آندایزینگ ( دما و زمان آندایزینگ) بر روی مورفولوژی تمپلیت اکسید آندی آلومینیوم (AAO) با استفاده از میکروسکوپ الکترونی گسیل میدانی(FE-SEM)مورد بررسی قرار گرفت .نتایج نشان داد که با افزایش دمای آندایزینگ، قطر حفرات کاهش و نظم تمپلیت AAO افزایش یافته است .از طرفی افزایش زمان آندایزینگ موجب افزایش ضخامت لایه اکسیدی متخلخل شده است .در بخش دوم این پژوهش نانوسیم‌های آلیاژی CoNi با استفاده از روش رسوب‌دهی جریان متناوب درون حفرات تمپلیت AAO رسوب داده شدند .تاثیر پارامترهای رسوب‌دهی الکتروشیمیایی شامل فرکانس، غلظت و pH حمام بر روی منحنی‌های جریان- زمان، الگوی پراش اشعه ایکس و ترکیب شیمیایی نانوسیم‌ها مورد ارزیابی قرار گرفت .با افزایش فرکانس رسوب‌دهی دانسیته جریان رسوب‌دهی افزایش یافته، همچنین مقدار نیکل رسوب یافته نانوسیم‌های آلیاژی CoNi نیز افزایش یافت .در pH=۲ کبالت دارای ساختار hcp است در حالی که در pH های ۴ و ۵/۵ دارای ساختار مختلط hcp و fcc می‌باشد .از طرفی با افزایش pH ، مقدار کبالت نانوسیم آلیاژی افزایش یافت .بررسی غلظت حمام رسوب‌دهی نیز نشان داد که با افزایش غلظت یون کبالت، میزان کبالت نانوسیم CoNi افزایش می‌یابد
آندایزینگ
رسوب دهی الکتروشیمیایی
کبالت - نیکل
PH
اکسید آلومینیوم منظم
تمپلیت
پناهی دانایی، عنایت الله
نصیرپوری، فرزاد، استاد راهنما
ایران
20230830
مواد،۷۰۲۷۵،۱۳۹۲
م‌امح ت‌ظلغ رثا ه‌علاطم، pH ی‌ژایلآ ی‌اهم‌یسونان دشر ی‌ور رب ی‌کیرتکلا ی‌راکبآ ی‌اهرتماراپ و CoNi.pdf
عادی
عادی
1657.pdf
p70275.pdf
0
ایمانی
متن
0
پ ۱۶۵۷
فارسی
نمایه‌سازی قبلی
pe
TF
92029
1
a
Y
