عرض القائمة
الرئیسیة
البحث المتقدم
قائمة المکتبات
حول الموقع
اتصل بنا
نشأة
ورود / ثبت نام
عنوان
Chemical vapor deposition : principles and applications
پدید آورنده
edited by Michael L. Hitchman and Klavs F. Jensen
موضوع
، Chemical vapor deposition
رده
TS
695
.
C54
کتابخانه
كتابخانه مركزي و مركز اسناد دانشگاه صنعتي خواجه نصير الدين طوسى
محل استقرار
استان:
طهران
ـ شهر:
طهران
تماس با کتابخانه :
88881052
-
88881042
-
021
Chemical vapor deposition : principles and applications
London ; San Diego
Academic Press
1993
v, 677 p. : ill.; 24 cm
Includes bibliographical references and index
edited by Michael L. Hitchman and Klavs F. Jensen
1
، Chemical vapor deposition
TS
695
.
C54
TI
AU Hitchman, Michael L
AU Jensen, Klavs F., 1952-
الاقتراح / اعلان الخلل
×
الاقتراح / اعلان الخلل
×
تحذیر!
دقق في تسجیل المعلومات
اعلان الخلل
اقتراح