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Vakuumbeschichtung :

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9783642633980

b570873

Vakuumbeschichtung :

[Book]

Verfahren und Anlagen

von Uwe Behringer, Helmut Gärtner, Reinar Grün, Gerhard Kienel, Michael Knepper, Erich Lugscheider, Hans Oechsner, Georg Wahl, Jürgen Waldorf, Gerhard K. Wolf ; herausgegeben von Gerhard Kienel, Klaus Röll.

Berlin, Heidelberg

Springer Berlin Heidelberg : Imprint : Springer

1995

VDI-Buch.

1 Vakuumbeschichtungsverfahren --; Übersicht --; 2 Bedeutung der Vakuumtechnik für die Beschichtungstechnik --; 2.1 Vorbemerkungen --; 2.2 Einfluß der Restgase auf die Schichtreinheit --; 2.3 Vakuumerzeugung --; 2.4 Vakuummessung --; 3 Aufdampfen im Hochvakuum --; 3.1 Vorbemerkungen --; 3.2 Physikalische Grundlagen --; 3.3 Anlagentechnik --; 4 Ionenplattieren --; 4.1 Einleitung --; 4.2 Ionenplattierungsprozeß --; 4.3 Anlagentechnik --; 4.4 Entwicklungsstand und Ausblick --; 5 Ionenzerstäubung von Festkörpern (Sputtering) --; 5.1 Einführung --; 5.2 Beschreibung des Zerstäubungsprozesses --; 5.3 Plasmagestützte Zerstäubungsverfahren --; 5.4 Anlagentechnik --; 6 Teilchenstrahlgestützte Verfahren --; 6.1 Einleitung --; 6.2 Teilchenstrahlquellen --; 6.3 Anwendung niederenergetischer Ionen- und Plasmastrahlen --; 6.4 Teilchenstrahlunterstützte Beschichtung (IBAD) --; 6.5 Ionenstrahlimplantation --; 6.6 Ionenstrahlmischen --; 7 Erzeugung von Mikrostrukturen an Oberflächen und dünnen Schichten --; 7.1 Plasmamethoden --; 7.2 Teilchenstrahlmethoden in ihrer Anwendung in der Lithographie --; 8 Plasmabehandlungsmethoden --; 8.1 Plasmadiffusionsverfahren --; 8.2 Pulsimplantation --; 9 Plasmaspritzen --; 9.1 Vorbemerkungen --; 9.2 Funktionsprinzip des Plasmaspritzens --; 9.3 Verfahrensvarianten --; 9.4 Anlagentechnik --; 10 Abscheidung aus der Gasphase --; 10.1 Physikalisch-chemische Grundlagen --; 10.2 Produktionssysteme für CVD-Prozesse --; 10.3 Modifizierung des Beschichtungsprozesses durch ein Plasma --; 10.4 Modifizierung der Gasphase durch Photo-CVD --; 10.5 Plasmapolymerisation --; Literatur --; Sachwortverzeichnis --; Autorenverzeichnis.

Schwerpunkte in Band 2 bilden das Aufdampfen im Hochvakuum, das Ionenplattieren, die Kathodenzerstäubung, teilchengestützte Verfahren, die Erzeugung von Mikrostrukturen, Plasmabehandlungsverfahren und die Abscheidung aus der Gasphase (CVD).

Engineering.

Structural control (Engineering)

von Uwe Behringer, Helmut Gärtner, Reinar Grün, Gerhard Kienel, Michael Knepper, Erich Lugscheider, Hans Oechsner, Georg Wahl, Jürgen Waldorf, Gerhard K. Wolf ; herausgegeben von Gerhard Kienel, Klaus Röll.

Erich Lugscheider

Georg Wahl

Gerhard K Wolf

Gerhard Kienel

Hans Oechsner

Helmut Gärtner

Jürgen Waldorf

Klaus Röll

Michael Knepper

Reinar Grün

Uwe Behringer

[Book]

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